Un vaste domaine de procédés industriels utilisent des plasmas et de nouvelles applications se développent sans cesse. Dans l'industrie de la microélectronique les demandes de rendements plus importants malgré la miniaturisation constante signifie que la réproductibilité des procédés ainsi que leur compréhension à l'échelle nanoscopique est fondamentale.

Les sondes plasma de chez Hiden mesurent les données clés du plasma et fournissent une information détaillée des paramètres électriques et physico-chimiques du plasma.

Produits 
 

EQP

Analyseur de masse et d'énergie pour le diagnostic physico-chimique du plasma.

ESPION

Sonde de Langmuir pour le diagnostic électrique du plasma.

HPR-30

Analyse des Gaz des Procédés.

Série PSM

Spectromètre de Masse pour l'échantillonnage des plasmas.

EQP Systems (2403K)

ESPION Advanced Langmuir Probes for Plasma Diagnostics (310K)

HPR60 Molecular Beam Sampling Mass Spectrometer (669K)

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A Novel Method for the Study of Neutral Components of Processing Plasma (85K)

An Improved Method for the Study of the Neutral Components of Processing Plasma (146K)

Characterisation of an ICP Recator (I) (158K)

Characterisation of an ICP Reactor (2) (285K)

Energetic (Fast) Neutral Species Analysis (97K)

Energies of Ions Sampled Through a DC Biased RF Driven Electrode (185K)

Energy Distributions of Ions and Atoms from a Magnetron Source (173K)

EQP Diagnostic System Overview (178K)

EQP Radicals Sampled from a Plasma (107K)

EQP/EQS Time Resolved Studies in Ion Beam and Plasma Processes (246K)

ESPION Advanced Langmuir Probe (179K)

ESPION Langmuir Probe for Time Resolved Measurements (336K)

Investigation of Plasmas at Atmospheric Pressures (236K)

Ion Energy Distribution in the Afterglow of a Pulsed ICP (324K)

Ion Energy Distributions of Positive Ions in an Argon Discharge (119K)

Mass Spectrometry of Processing Plasmas with the EQP/Mass Energy Analyser (105K)

The Energies of Positive and Negative Ions in an RF Plasma in Nitrous Oxide (147K)

Data Control Inputs and Outputs and Special Applications (17K)

EQP and EQS Technical Information (201K)

EQP 1000 Series Probe Schematic (66K)

EQP 300 500 Series Probe Schematic (69K)

ESPION Advanced Langmuir Probe (347K)

ESPION Probe Schematic (41K)

ESPION Standard 300mm Z-Drive Schematic (81K)

HPR60 Modulated Molecular Beam Mass Spectrometer for Reaction Kinetics (168K)

Introduction to Langmuir Probes (148K)

 Atmospheric Plasma Analysis by Molecular Beam MS - GEC 2004 (1377K)

 Atmospheric Pressure Plasma Analysis by Modulated Molecular Beam MS - ICPIG 2005 (256K)

Ion Energy Distributions for a DC Plasma - GEC 2003 (250K)

Time Resolved Ionisation Studies of HIPIMS - PSE 2006 (848KB)

Charged Particle Analysis in Plasma Assisted Processes (598K)

Low Energy Ne Scattering from Metal Surfaces Using MARISS (322K)

Mass Spectrometry of Processing Plasmas Using the EQP System (552K)