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SIMS est la technique d'analyse de surface la plus sensible permettant de déterminer la composition de la surface, l'analyse des contaminants et l'analyse en profondeur des couches atomiques supérieures de tout échantillon solide.
Appliqué à l'analyse des quelques premiers microns d'une surface, les systèmes Hiden SIMS permettent l'analyse en profondeur avec une résolution de 5 nanomètres.
La station de travail Hiden SIMS permet des analyses SIMS en mode statique et dynamique de haute performance pour obtenir des informations détaillés sur la composition de la surface d'un solide et obtenir des profiles en profondeur.
Les instruments SIMS de chez Hiden sont également équipé pour l'imagerie élémentaire permettant d'obtenir une cartographie de la surface de son échantillon élément par élément avec une résolution inégalée.
Tout un tas de pièces détachées "prête à monter" sont également disponiblepour utiliser avec d'autres systèmes d'analyse SIMS déjà existant.
Produits
Un système complet d'analyse SIMS.
Pour l'analyse de surface et en profondeur.
Détection en mode "pulse ion counting".
Toute une gamme de composants de spectromètres.
Brochures
Mass Spectrometers for Thin Films, Plasma and Surface Engineering (1.1MB)
MAXIM - Quadrupole SIMS Analyser (562K)
SIMS Brochure TI 181 (670K)
SIMS Brochure TI 181 HiRes (5.64MB)
Tour of the Hiden SIMS Workstation (6215K)
Posters
Electron Impact Sputtered Neutral Mass Spectrometry (SNMS) using the Hiden EQS Energy Resolving Quadrupole Mass Spectrometer - ROLDUC 2012
High Performance SIMS - Mass and Energy Analyser for SIMS (A2)
High Performance SIMS - Mass and Energy Analyser for SIMS (A3)
Présentations
End Point Detector System for Ion Beam Etch Applications (278K)
Low Energy Ne Scattering from Metal Surfaces using MARISS (323K)
SIMS Images (2218K)
SIMS Workstation and Bolt-On Components (4319K)
Attention : Vous devez être connectés pour avoir accès aux documents suivants.
Notes d'Application
Energetic (Fast) Neutral Species Analysis (98K)
EQP/EQS Time Resolved Studies in Ion Beam and Plasma Processes (247K)
EQS vs EPIC - Ion Energy Distributions (271K)
Secondary Ion Mass Spectrometry - Glass Coatings (30K)
Secondary Neutrals Analysis (301K)
SIMS - Imaging of Semiconductor Contact Pads (493K)
SNMS - Depth Profile of Hard Drive Platter (560K)
Sputtered Neutral Mass Spectrometry - Magnetic Layers (89K)
Tour of the Hiden SIMS Workstation (6215K)
Informations Techniques
EQS 1000 Series Probe Schematic (81K)
EQS 300/500 Series Probe Schematic (53K)
SIMS Imaging FoV Schematic (61K)
Spécifications
IG20 Ion Gun for Dynamic SIMS (61K)
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