| ICP, Puesto de Trabajo Plasma con Analizador EQP de Masas y de Energía Iónica |  | Análisis combinado de masas y de energía de todas las especies durante procesos plasma RF.
- Estudios de plasma y de erosión/del grabado iónico
- CVD / PVD / MOCVD
- Modificación de superficie
- Procesos en vacío / por plasma
- Limpieza y esterilización por plasma
- Deposición y modificación d capas finas
- Fabricación y modificación de materiales composites
| Características del puesto de trabajo plasma Hiden, un conjunto integrado reactor RF-ICP Y analizador de plasma para todos los estudios de procesos plasma: - Célula cilíndrica de cuarzo, 100 mm de diámetro
- Bobina de inducción en cobre de 4 espiras, con equipo de enfriamiento y ajuste de la bobina a 100 mm
- Generador RF 13,56 MHz, hasta 200 W con dispositivo de ajuste
- Pantalla RF (440 x 340 x 340 mm)
- Enfriamiento por aire, control del doble flujo manual o automático
- Rampa de doble bombeo turbo molecular montada en diferencial
- Sonda de presión capacitiva y visualización de la presión de la célula
- Analizador de plasma HIDEN EQP 500 con variación de z en 100 mm comandado por software MASsoft
- Analizador de masas y de energía para los iones positivos y negativos, los neutros y radicales
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