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ICP, Poste de Travail Plasma avec Analyseur EQP
de Masse et d’Energie Ionique |
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Analyse combinée de masse et d’énergie
de toutes les espèces lors de procédés plasma
RF.
- Etudes de plasma et d’érosion/de la gravure ionique
- CVD / PVD / MOCVD
- Modification de surface
- Procédés sous vide / par plasma
- Nettoyage et stérilisation par plasma
- Dépôt et modification de couches minces
- Fabrication et modification de matériaux composites
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Caractéristiques du poste de travail plasma
Hiden, un ensemble intégré réacteur RF-ICP
et analyseur de plasma pour toutes les études de procédés
plasma:
- Cellule cylindrique en quartz, 100mm de diamètre
- Bobine d’induction en cuivre à 4 spires, avec
équipement de refroidissement et réglage de la
bobine à 100mm
- Générateur RF 13,56 MHz, jusqu’à
200 W avec dispositif de réglage
- Ecran RF (440 x 340 x 340 mm)
- Refroidissement à l’air, contrôle du double
flux manuel ou automatique
- Rampe à double pompage turbomoléculaire monté
en différentiel
- Jauge de pression capacitive et affichage de la pression
de la cellule
- Analyseur de plasma Hiden EQP 500 avec variation de z sur
100 mm piloté par le logiciel MASsoft
- Analyseur de masse et d’énergie pour les ions
positifs et négatifs, les neutres et les radicaux
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